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硅表面疏水性处理微观机理与亲水性处理机理相似，硅表面成为疏性的基本条件为B=A=r（SL）- r（SG）＞0
硅片表面必须由高能转化为低能表面。从上式可以看出:完成上述转化的条件为或者使 r（SG）下降,或者r（SL）上升。方法还是改变其表面结构，使 r（SG）减小。硅片经过特殊清洗液洗时，表面形成的自然氧化膜腐蚀掉，Si几乎不被腐蚀。硅片外层的Si儿乎以H键为终端结构，表面呈疏水性。
聚二硅氧烷. (PDMS)作为一种高分子聚合物材料，除了具有廉价、加工简便等特点之外，还可以用浇注法微结构、能透过可见及部分紫外光、具有生物兼容性等优点，是目前微流控芯片制备中使用较多的一种材料。但PDMS质地柔软，单- -用PDMS制作的微流控芯片，不适合应用于对其机械刚度要求较高的场合。采用PDMS、硅、玻璃混合封装的方法可以通过合理设计扬长避短，充分发挥各种材料的优点，以满足不同的使用要求。固化后的PDMS表面具有一定的粘附力,对成型后的PDMS基片不加任何处理，即可借助分子间的引力自然粘合，但这种粘合强度有限，容易发生漏液。
近年来，随着我国经济的高速发展和工业化、城市化进程的加快，大量的生活和工业废水排入水体，使人类赖以生存的饮用水水源日益受到污染。据报道，我国目前90％以上的饮用水水源为微污染水体，约有3亿人喝不上达标的饮用水，饮用水安全问题已经引起了社会各界的广泛关注。由于饮用水水源的不断恶化，传统的混凝、沉淀、过滤和消毒处理工艺已经难以满足日益严格的水质要求。在饮用水处理技术的更新换代中，与常规水处理工艺相比，膜分离技术具有出水稳定、安全性高、占地面积小、容易实现自动控制等优点，已经成为21世纪有应用价值的水处理技术之一。
纳滤膜分离是一种介于超滤膜分离与反渗透膜分离之间新型膜分离技术，被广泛应用于硬水软化、水中少量有机物的去除、染料提纯脱盐、不同分子量有机物的分离和纯化等诸多工业领域。目前的纳滤膜大多是水性的，主要针对以水为溶剂的体系，而根据亲疏水性不同，水体中污染物小分子可以分为亲水性物质、疏水性物质和中性物质；水性的纳滤膜难以同时去除亲水性物质、疏水性物质和中性物质。
疏水是满足将锅炉汽水系统中的水和蒸汽冷却产生的凝结水排出的要求，为保证严密性通常设置两道阀门，在锅炉运行时通常处于关闭状态。凝结水是饱和的高温软化水，其热能价值占蒸汽热能价值的25%左右， 而且也是洁净的蒸馏水，适合重新作为锅炉给水。
一种合格的锅炉水处理剂必须有效地起到阻垢和缓蚀两作用。阻垢主要是对锅炉本体的阻垢，而缓蚀的对象包括锅炉本体以及蒸汽所通过的管道，热交换器和凝结水管道。
