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真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，包括真空离子蒸发镀膜机、磁控溅镀膜机射、MBE分子束外延镀膜机和PLD激光溅射沉积镀膜机等很多种。真空镀膜机对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，蒸发或溅射出的成膜材料是在一般磁控溅射条件下与待镀工件形成膜的过程。无论是金属、合金、化合物、陶瓷还是有机物，都可以气相沉积各种金属膜和介质膜，不同的材料可以同时气相沉积得到多层膜。
真空镀膜是在原子水平上进行材料生成的技术，镀层的晶料度在10纳米左右，属于纳米材料的范畴。通过对壳内壁真空镀电磁防护膜层，可以极大地防止因电磁波辐射而对手机使用者造成的危害。真空镀膜技术的研究”，主要解决的是镀膜的工艺问题，包括电阻率、附着力、高温性、膜层表面光亮度以及复杂区域的膜层附着问题。根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。
真空镀膜设备稳压器！稳压器是保障设备精密电子元器件不遭受电流破坏的一种必备部件，城市供电的电压忽高忽低变化是再正常不过的事情，稳压器解决了真空镀膜设备运行中电压电流瞬时过载对于元件的冲击，从而大大提高了系统运行可靠性。
稳压器应该具备一定性能：安全、省电、平稳、快速且范围广。
安全：过载保护、模组设计、自动旁路。
省电：低的功耗设计，超低的空载电力消耗。
平稳：不波动，保持不间断的平稳电流输出。
快速：电压侦测须灵敏，具有快速的反应时间。
范围广：支持电压波动范围要广泛，负载范围必须要广。
真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。
在真空镀膜机运转正常情况下，开动真空镀膜机时，须先开水管，工作中应随时注意水压。
在离子轰击和蒸发时，应特别注意高压电线接头，不得触动，以防触电。
镀制多层介质膜的镀膜间，应安装通风吸尘装置，及时排除有害粉尘。
