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1分钟前 沙溪保温杯曝光显影报价服务至上「多图」[利成感光38dbdb8]内容:显影工艺一般步骤如下:图2 显影工艺步骤1.预喷淋(p-wet):为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能,先在硅片表面喷上一点去离子水(Deionizedwater,DIW)。2.显影喷淋(developer dispense):曝光显影工艺流程说明:1. 洗版:将磁铁版放在洗版机中洗涤,消除污渍,使印版面干净、平整。2. 显影:将洗净的磁铁版放入显影机中显影,选择合适的膜粒大小,以便根据图案进行印刷。3. 曝光:使用灯光/照相机曝光,使磁铁版上的油墨凝固,形成良好...显影液表面停留(puddle):为了让显影液与光刻胶进行充分反应,显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。从而形成可见的图片。而在数字摄影中,曝光则是相机中的数字传感器接收到光线所对应的信息,并记录下来,再通过数字信号处理,将其转化为图片的过程。甩干(spin dry):为了将表面的去离子水甩干,将硅片转到高转速显影:将曝光后的硅片浸泡在显影液中,在此过程中,光刻胶会在掩膜中没有被曝光的部分(即需要去除的图案区域)中被消蚀,并暴露出硅片表面。曝光一般在曝光机内进行,目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷,曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、菲林胶片质量等因素。尽管对193i负胶的研发已经倾注了很大的努力,但是其性能仍然与正胶有比较大的差距,所以提出负显影(Negative Tone Develop,NTD)。曝光一般在曝光机内进行,目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷,曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、同时曝光影响图案的线宽,过量曝光会使图形线条变细,蚀刻产品线条变粗。所以好的办法是依据显影的干膜光亮程度,图像清晰度,图案线条与底片相符,曝光设备参数和感光性能,确定适合的曝光时间。
3D曲面玻璃的曝光显影技术的优势在于:在玻璃表面有极高的解像力,利用曝光显影工艺正好可以解决遮蔽油墨不能通过传统印刷解决的问题,具有精度高,量产性好,良率高等特点,采用曝光显影技术,遮蔽油墨可控良率可达90%以上。